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2025-12-11 17:33:06

反应离子刻蚀与高压直流电源

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RIE 是一种将 物理溅射 与 化学反应刻蚀 组合在一起的等离子体刻蚀技术，用于半导体制造中对薄膜进行高选择性、高各向异性刻蚀。其中偏压电源决定了粒子撞击能量，改变化学反应速度。

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